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再传捷报|玉之泉双光子三维激光直写光刻系统荣获“微纳制造优秀成果奖”
发布时间:
2025-11-24
2025年11月13-15日，由中国光学工程学会主办的第九届微纳光学技术与应用交流会在苏州召开，同期举办的“2023-2025微纳制造优秀成果展”上，杭州玉之泉精密仪器有限公司“双光子三维激光直写光刻系统”作为原始性创新、核心技术成果，获评“优秀成果奖”。
玉之泉双光子三维激光直写光刻系统，真三维无掩膜光刻，可实现高自由度纳米级三维结构制造，最小特征尺寸可达50nm。为多个领域的研究发展提供先进的高精度、三维制造解决方案，应用领域包含但不限于微纳光学器件、微/纳流控芯片、片上光互联、微机械等。
技术创新永无止境，秉持初心，玉之泉将持续深耕微纳制造领域，加快创新成果的产业化步伐，为高端制造技术的发展贡献力量。我们诚挚邀请各位合作伙伴、行业专家携手同行，共同探索微纳光学技术的更多可能性，一起见证并推动国产精密仪器行业迈向新高度！
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