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精彩回顾|玉之泉光博会圆满收官
发布时间:
2025-09-15
第26届中国国际光电博览会（CIOE）于9月12日在深圳国际会展中心圆满落幕。这场光电行业的年度盛会汇聚了全球3800家优质企业，集中展示了微纳加工领域的最新突破，特别是激光直写光刻技术的创新成果。在为期三天的展会中，杭州玉之泉精密仪器有限公司携最新研发的AOD紫外激光直写光刻系统精彩亮相，向全球展示了中国在高精度微纳加工领域的重大突破与创新实力。
一、盛会亮相：玉之泉重磅发布国内首台AOD紫外激光直写光刻系统
在本次光博会上，杭州玉之泉精密仪器有限公司展出的AOD紫外激光直写光刻系统引起了行业专家的广泛关注，成为展会焦点之一。重磅|玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统首发亮相倒计时
这款系统深度融合了声光偏转技术、激光精密调控与闭环反馈微纳加工技术，能够直接在基材上“书写”任意二维/2.5维微纳结构。该系统凭借无掩膜设计的核心优势，成功打破了传统光刻技术成本高、周期长的瓶颈，为微纳加工领域带来了全新解决方案。多年来，玉之泉一直致力于激光直写光刻技术的研发与创新，此次展示的AOD紫外激光直写光刻系统为国内首发，是公司深厚技术积累的集中体现。
二、大咖云集：行业精英共话技术未来
展会期间，玉之泉展位吸引了大量专业观众和行业专家。
浙江大学光电科学与工程学院教授、杭州玉之泉精密仪器有限公司创始人匡翠方教授与加拿大工程院院士、美国玻色光子公司创始人兼总裁顾波先生亲临玉之泉展位，详细了解了AOD紫外激光直写光刻系统的技术特点与应用前景，并对玉之泉的技术创新给予了高度评价。
三、精彩报告：解码激光直写的产业价值
玉之泉总经理张舟洋先生在展会期间做了题为《激光直写光刻技术的研究与应用》的专题报告。CIOE论坛邀约|与玉之泉共话激光直写技术
他在报告中指出：“激光直写光刻技术是现代微纳加工领域的重要技术分支，该技术采用计算机控制的强度可调激光束直接聚焦于光刻胶层，通过精确调控曝光剂量实现光刻胶溶解度的选择性改变，经显影后即可获得高精度的微纳结构。”他强调，这项技术的显著特征在于完全消除了掩膜制备与套刻对准等复杂工序，不仅大幅简化了工艺流程，更显著降低了设备成本。目前，该技术已在量子计算、微纳工业母版、微机电系统、生物组织再生等领域展现出卓越的应用价值。
四、完美收官：科技创新永不止步
随着深圳光博会的落幕，玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统的亮相已成为微纳加工领域的热议话题。
从全球最大光电展会的舞台到产学研专家的一致认可，这项技术的突破不仅填补了国内在该类高精度微纳加工设备领域的技术空白，更打破了全球市场中同类设备的技术垄断格局，展现出中国在微纳加工装备领域的强大研发实力与全球竞争力。作为中国光电产业的重要参与者，玉之泉将继续秉承技术创新理念，持续推动激光直写光刻技术的发展和应用，为全球微纳制造领域贡献更多中国智慧和中国方案。
三天展会，无数精彩瞬间，无数技术交流，无数思想碰撞。玉之泉感谢每一位莅临展位的朋友，期待与您携手共进，共同开创微纳制造的美好未来。光刻万象，直写未来|玉之泉光博会圆满收官，AOD紫外激光直写光刻系统引领微纳制造新纪元
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