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获奖回顾|玉之泉斩获特等奖

发布时间:

2025-08-14

2025年6月11日，国内光学光电子领域最具权威性和影响力的高端学术盛会——中国光学学会学术大会在长春隆重开幕。本届大会以“学术+产业”“国内+国际”双轮驱动，着力打造高水平的产学研交流平台，特设22个专题、近100个子专题，横跨基础研究至产业应用，充分彰显了光学科技的广度、深度及产学研融合的核心价值。2000余名来自全国各高校、科研院所、科技企业等单位，从事光学、光学工程领域的专家学者、青年学子参加了开幕式。

中国光学学会秘书长、杭州玉之泉精密仪器有限公司创始人刘旭教授主持开幕仪式。

开幕式上举行了科普教育基地授牌及学生分会授旗仪式，颁发了包括王大珩光学奖、郭光灿光学奖、光学科技创新奖在内的多项学会年度重要奖项。浙江大学光电科学与工程学院教授、杭州玉之泉精密仪器有限公司创始人匡翠方教授，代表获奖单位上台领取“2024年度中国光学学会科技创新奖——特等奖”。

获奖技术名称：

超分辨并行激光直写光刻技术与装备

技术简介：

刘旭教授、匡翠方教授团队联合浙江大学、杭州玉之泉精密仪器有限公司等单位，攻克高精度、高通量、高稳定性纳米光刻技术难题，实现三大突破：

1.首创多通道协同抑制技术：融合光学边缘抑制与化学材料抑制，突破光学衍射极限，刻写精度达50nm以下，稳定性显著提升。

2.构建万束并行直写系统：自主研发高通量并行直写、超分辨焦斑调制、光束稳定及焦面跟踪等核心技术，实现万通道级并行光刻，效率提升百倍。

3.实现全链条技术自主可控：建立从光学设计、控制系统到专用光刻胶的完整技术体系。

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前瞻洞察|单光子辅助双光子聚合

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