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标准三维直写光刻（200nm）

产品型号：

MPP-4inch

MPP系列与传统双光子激光直写光刻系统最大的区别就在于使用基于边缘光抑制（PPI）的超高精度三维直写光刻技术。本系统利用可见光曝光实现亚50nm尺寸结构加工，突破衍射极限，并实现单波长激发与抑制，避免色差影响，为大面积超分辨刻写奠定了研究基础；针对系统扫描曝光方式改进，速度比原来文献中的曝光速度至少可提升1个数量级，提升了PPI直写刻写技术的应用潜力。

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核心技术介绍
MPP系列与传统双光子激光直写光刻系统最大的区别就在于使用两路加工光束。其中一路为波长532nm的飞秒激光，称为激发光；另一路为波长532nm的连续激光，称为抑制光。在加工时，使用专用的PPI光刻胶，这种光刻胶对激发光和抑制光有不同的光敏效果：激发光可以使光刻胶照射位置发生双光子聚合形成结构，抑制光则可以破坏光刻胶分子交联达到去聚合的效果。当抑制光与激发光合束后，通过聚焦形成3D暗斑以减小激发光等效光斑尺寸，从而超越光学衍射极限，实现高精密双光束直写加工。
基于边缘光抑制（PPI）的激光直写技术是一种超高精度三维直写光刻技术。本系统利用可见光曝光实现亚50nm尺寸结构加工，突破衍射极限，并实现单波长激发与抑制，避免色差影响，为大面积超分辨刻写奠定了研究基础；针对系统扫描曝光方式改进，速度比原来文献中的曝光速度至少可提升1个数量级，提升了PPI直写刻写技术的应用潜力。

通用参数

系统参数
支持打印高度	≤10mm
最低粗糙度	≤30nm
最小特征线宽	≤50nm（XY平面）和≤300nm（Z轴）
最小周期（XY平面）	≤400nm
扫描速度（最大）	10m/s除以物镜放大倍率（例：100X物镜下扫描速度为100mm/s）
拼接精度	≤100nm（XY平面）
支持刻写区域（圆形）	直径4英寸（可定制）
激光器参数
中心波长	517nm
平均功率	>1W
脉冲宽度	<200fs
功率稳定性	<1%RMS
光束质量	<1.2
重复频率	80±5MHz
系统尺寸
外观尺寸	宽1700mm乘以深1500mm乘以高2200mm
重量	<2000kg
安装条件	千级以上洁净间
电气条件	220/380V、功率>5kW
环境稳定	20±1℃
压缩空气	过滤至0.25μm，无油，稳定在0.5-0.6MPa，流量应在500-800SLPM
环境照明	黄光灯

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系统功能

光束功率稳定：支持飞秒激光束的能量稳定调控
激光能量调制：系统可以根据工件台的移动情况实时对激光能量调制，以维持恒定的线宽
光束指向稳定：支持飞秒激光束的指向稳定调控
定焦与寻焦功能：支持焦面定位，精度≤10nm
二维结构刻写软件：支持JPG、GDS、TIFF图片化刻写方式
三维结构刻写软件：支持STL文件导入的刻写方式
壳层打印模块：大块的实心结构通过只曝光其壳层的方式进行加工，极大缩短加工时间
脚本化刻写模式：提供脚本化编程接口，支持用户自定义加工结构
温度补偿模块：±0.1℃，噪音小于65dB，湿度±5%
多通道功能：通道数可扩展，最高可扩展至6通道，每个通道可独立调控（可选）
转镜扫描模组：振镜扫描模组可升级为转镜扫描模组，最大产率17.7mm2/min（@50nm像素） 35.4mm2/min（@100nm像素）